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CRF plasma 等離子清洗機

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中頻plasma清洗機在制造業中有哪些應用

       中頻plasma清洗機采用中頻電源、中頻中頻電源、以16位微處理器為核心的四百赫茲中頻電源、電力工程電子產品做為電力工程輸出單元，采用了數字分頻、鎖相、波形瞬時反饋、SPWM脈沖寬度調制、igbt模塊輸出等新工藝和模塊化設計構造，具備負荷適用性強、效率高、穩定性好、輸出波形質量好、操作簡單、體積小、重量輕、智能控制、異常保護、輸出頻率調節、輸出反應速度快、過載能力強、完全隔離輸出、長壽命耐損傷等特點。中頻plasma清洗機使用的這種電源控制器。


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      典型的等離子化學清洗工藝是o2中頻plasma清洗機。電漿中的氧自由基非常活潑，很容易與烴類反映產生揮發性的物質，例如CO2、CO、H20，從而去除表面的污染物。等離子體清理主要是物理反應，又叫濺射浸蝕(SPE)或離子銑(IM)，生化學變化，清理表面不會留下氧化物，能保持被清理物體的化學純度。另一種中頻plasma清洗機的清理是表面反應機制中的物理反應和化學變化，即反映正離子浸蝕和反映電子束浸蝕，2種清理互相促進，離子轟擊破壞被清理表面，削弱化學鍵，形成原子態，容易吸收反映劑，正離子碰撞加熱被清理物，容易發生反映。

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